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全自动晶圆清洗与检测系统

面向半导体制造链条的精密尺寸检测环节,以非接触光学影像测量为核心,覆盖晶圆载具、封装基板、引线框架等工件的二维尺寸与轮廓检测,可按精度与行程需求组合闪测仪与影像测量仪,并支持选配传感器扩展高度方向测量。

全自动晶圆清洗与检测系统

方案正文

行业痛点

  • 半导体相关工件尺寸小、公差紧,常规卡尺、投影仪难以稳定读取微米级特征;
  • 工件多为洁净件、薄壁件或脆性件,接触式量具存在划伤与污染风险;
  • 检测点位多(外形、孔位、间距、轮廓),人工逐项测量效率低,结果一致性依赖经验;
  • 来料与制程抽检样本量大,要求检测数据可留存、可追溯;
  • 产线空间与节拍受限,部分环节需要在工位旁完成快速筛查。

方案思路

本方案聚焦半导体制造链条中的精密尺寸检测环节,以非接触光学影像测量为基础:由远心透射照明获取工件轮廓,配合表面分区照明与同轴光还原表面特征,在不接触工件的前提下读取二维尺寸。针对不同工件规模与精度要求做分级配置——微细特征选择高分辨率光学系统,大幅面工件选择大视野闪测或大行程龙门影像测量仪;需要台阶高度、凹槽深度等第三维数据时,可通过选配点光谱传感器、线激光传感器或接触式探针扩展。

推荐配置

机型 测量范围(X×Y×Z) 精度与重复精度 适配环节
信332影像测量仪 300×300×200mm X/Y轴 (1.2+L/200)μm;分辨率 0.1μm;13.3X镜头,16X–232X放大 精细轮廓与微细特征
智662影像测量仪 600×600×200mm X/Y轴 (2.2+L/200)μm;分辨率 0.1μm;直线电机,500mm/s 中大幅面工件全尺寸
重明6060闪测仪 600×600×200mm 未拼接 ±2.5μm;平台未移动重复 ±2.0μm;500mm/s 大视野快速筛查(含变倍影像与点光谱模组)
鸿鹄M3020显微闪测仪 300×200×55mm ±1.0μm;重复 ±0.2μm;2000W彩色相机+APO镜头 显微级微细结构
谦8102影像测量仪 800×1000×200mm X/Y轴 (3.0+L/200)μm;承重 30kg 大尺寸载具与基板

可检测项目

  • 封装基板、陶瓷基板的外形轮廓、孔位与孔径、线路区边界尺寸;
  • 引线框架的外形、脚位间距与位置;
  • 晶圆载具(花篮)的外形尺寸与槽位间距(二维投影);
  • 精密结构件的长度、宽度、角度、圆弧半径与圆心距;
  • 选配点光谱、线激光或接触式探针后,扩展台阶高度、凹槽深度等高度方向测量。

方案价值

  • 非接触:光学成像测量,避免接触力对洁净件、薄壁件造成划伤或变形;
  • 精度可用:影像测量仪 X/Y 轴精度最高可达 (1.2+L/200)μm,显示分辨率 0.1μm;
  • 批量高效:闪测仪支持一键批量测量与自动识别尺寸,一次放置即可输出多个尺寸;
  • 数据留存:测量结果可输出报告,便于来料检验与制程追溯;
  • 可扩展:点光谱、线激光、接触式探针均为选配,可按检测需求分阶段投入。

实施方式

按“检测需求沟通 → 实际工件打样验证 → 机型与配置确认 → 安装调试与操作培训 → 售后支持”推进。建议提供实际工件进行打样测量,以实测数据确认机型与精度是否匹配。

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